Два однакові за розмірами металеві кульки мають заряди 7 мкКл і − 3 мкКл та перебувають в вакуумі. Кульки доторкнулися одна до одної та розійшлися на деяку відстань, після чого сила їх взаємодії стала рівною 0,4 Н. Визначте цю відстань . *

Существует 4 типа кристаллических решеток: ионные, молекулярные, атомные и металлические.

В узлах ионных кристаллических решеток находятся ионы, как можно понять из названия. Такой тип решетки характерен для солей, оксидов и некоторых гидроксидов. Например, самый яркий представитель - NaCl. Вещества подобного строения характеризуются высокой твердостью, тугоплавкостью и нелетучестью.

В молекулярных кристаллических решетках в узлах находятся молекулы. Такие решетки могут быть полярные и неполярные. Например, I2 или N2 - неполярные, а HCl или H2O - полярные. Характерны для жидких и газообразных веществ (при н.у.). Так как молекулярные взаимодействия слабые, то и кристаллические решетки эти будут нетвердые, летучие и с низкой температурой плавления. К таким решеткам относят твердую органику (сахар, глюкоза, нафталин).

В атомных кристаллических решетках в узлах находятся атомы, связанные друг с другом прочными ковалентными связями. Такая решетка характерна простым веществам неметаллам, которые при нормальных условиях находятся в твердом состоянии, например алмаз. Температура плавления у подобных веществ очень высокая, они прочные, твердые и нерастворимы в воде.

Металлические решетки характеризуются тем, что в узлах находятся атомы или ионы одного или нескольких металлов (у сплавов). Для металлических решеток характерно наличие так называемого общего электронного облака. Так как непрерывно происходит процесс перехода валентных электронов одного атома к другому с образованием иона, то можно говорить о том, что электроны свободно двигаются в объеме всего металла. Этим свойством объясняется электро- и теплопроводность металлов. Вещества такого строения ковки и пластичны.

Вообще в материаловедении для изучения кристаллических структур существует множество методов, основанных на свойствах рентгеновского излучения (дифракция, интерференция), электронографический анализ и другие. Но если вы хотите просто определить тип решетки вещества известного состава, нужно понять к какому классу веществ оно относится и какие физико-химические свойства имеет.

Одним из методов исследования элементарных частиц высоких энергий, нашедших применение в последнее время, является фотоэмульсионный метод. Экспериментальное изучение элементарных частиц фотоэмульсионным методом производится по их следам, оставленным в стопке пластин с толстослойной "ядерной" фотоэмульсией, облученных на синхрофазотронах или в космическом пространстве [l]. Ядерная толстослойная фотоэмульсия - это суспензия светочувствительных зерен бромистого серебра в растворе желатина со значительно большей концентрацией (до 84 %) и в несколько раз меньших размеров зерен, чем в обычной фотоэмульсии. Размер зерен бромистого серебра от 0,2 до 0,4мкм. Заряженные частицы, проходя через ядерную фотоэмульсию, воздействуют на зерна бромистого серебра таким образом, что после проявления они образуют ряд черных зерен коллоидного серебра вдоль траектории частиц. Чем выше чувствительность фотоэмульсии и больше ионизация, создаваемая частицей, тем плотнее зерна следа частиц. Благодаря большой тормозной ядерные фотоэмульсии имеют возможность зафиксировать следы частиц с очень большой энергией на сравнительно небольшой пластинке. Это обстоятельство черезвычайно важно для изучения космических лучей и частиц высокой энергии, получаемых на современных ускорителях. Современные ядерные фотоэмульсии позволяют регистрировать следы частиц с энергией порядка 1010 - 1015эв. Так как ядерная эмульсия представляет собой силовое поле, как и любая другая среда, то элементарная частица, попадая в слой фотоэмульсии, подвергается воздействию ядерных сил. Действие ядерных сил на элементарную частицу подчиняется закону Кулона образуя, таким образом, кулоновское взаимодействие электронных зарядов зерен эмульсии элементарной частицы. Распределение зерен бромистого серебра в объеме фотоэмульсии случайно, поэтому элементарная частица с большой энергией, попадая в слой фотоэмульсии благодаря кулоновскому взаимодействию будет двигаться не прямолинейно, а испытывать многократные отклонения от прямолинейности. Эти отклонения не регулярны, носят случайный характер и называются многократным рассеянием. Чем меньше энергия частицы, при всех прочих равных условиях, тем больше многократное рассеяние. Чем больше энергия частицы, тем больше длина пробега и расстояние между отдельными экспонированными зернами или группами зерен и тем меньше величина отклонения траектории движения частиц от прямолинейности и степень почернения зерен фотоэмульсии